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只是，這樣重要的半導體設備，雖在運行時仍會是在號稱污染性極低的芯片廠無塵室中，但是微影設備仍舊要有一層外殼的保護，這或許讓人百思不地其解這外殼的用途。對此，ASML就表示，雖然微影設備放置在號稱污染性極低的芯片廠無塵室內運行，但是考慮到4個因素，也就是“防止極細致污染源進入”、“維持溫度穩定”、“保護工作人員安全”、以及“阻擋激光散射光”等因素，微影設備仍舊必需要有一層外殼來保護。
ASML進一步解釋，在防止極細致污染源進入，ASML的微影設備已經在無塵室運行，不過一般半導體廠的無塵室等級分為10級和100級兩種，像蝕刻、微影這些重要制程都是在無塵等級10的環境中進行。10級的意思為每立方英尺存在10個以下大小為0.5微米的微粒子。所以，即便無塵室已經非常干凈，但0.5微米等于500納米，這些灰塵微粒對目前10納米線寬等級的芯片來說無比巨大！因此，ASML采用微影設備的外殼來阻絕外界的灰塵，再利用高效空氣過濾器（HEPA filter）產生無塵的空氣送往微影設備內部產生正壓空間。如此一來，外界的灰塵粒子就完全進不到微影設備內部。


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