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激光隱形切割作為激光切割晶圓的一種方案，很好的避免了砂輪劃片存在的問題。如圖1所示，激光隱形切割是通過將脈沖激光的單個脈沖通過光學整形，讓其透過材料表面在材料內部聚焦，在焦點區域能量密度較高，形成多光子吸收非線性吸收效應，使得材料改性形成裂紋。每一個激光脈沖等距作用，形成等距的損傷即可在材料內部形成一個改質層。在改質層位置材料的分子鍵被破壞，材料的連接變的脆弱而易于分開。切割完成后通過拉伸承載膜的方式，將產品充分分開，并使得芯片與芯片之間產生間隙。這樣的加工方式避免了機械的直接接觸和純水的沖洗造成的破壞。目前激光隱形切割技術可應用于藍寶石/玻璃/硅以及多種化合物半導體晶圓。
激光隱形切割 MEMS晶圓切割方法解析
圖2 硅材料透射光譜的特性
硅材料透射光譜的特性，見圖2，硅材料對紅外透過率很高，所以硅的隱形切割設備，通過選用短脈沖紅外激光器，將激光脈沖聚焦到硅襯底內部，實現隱形切割。激光隱形切割是非接觸式切割，解決了砂輪切割引入外力沖擊對產品破壞的問題。不過一般設備的激光隱形切割形成的改質層區域會使材料變得酥脆，還是會形成少量細小硅碎屑掉落，雖然碎屑數量遠少于砂輪切割，如前文所述，MEMS晶圓因為無法通過清洗的方法去除細小硅碎屑，故這些碎屑將對芯片造成破壞，影響良率。


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